Seau de lavage pour XiP Wash+Cure Nexa 3D

La station Wash+Cure XiP est livrée avec un seau de lavage mais un autre peut être acheté séparément afin de post-traiter les pièces imprimées en 3D avec l'imprimante XiP selon un processus à deux seaux recommandé par Nexa 3D.

L'utilisation de deux seaux de lavage distincts garantit que les pièces sont correctement nettoyées et permet d'économiser du solvant à long terme. Le premier seau (bain sale) sert à éliminer la majeure partie de la résine non polymérisée de la surface de la pièce et le solvant du premier seau peut être saturé avec beaucoup plus de résine avant de devoir être remplacé. Le second seau contient le bain dit propre qui doit être rempli de solvant propre et réservé au lavage final pour un nettoyage plus profond de la pièce. Une fois que le bain sale du premier seau est trop saturé en résine, le bain du second seau peut être réutilisé comme bain sale jusqu'à ce qu'il soit également saturé.

Le seau de lavage XiP a une capacité de 5.5 l et est équipé d'un couvercle étanche et d'un panier pour contenir la plaque de construction XiP ou les pièces détachées. Le seau de lavage inférieur est également équipé d'agitateurs magnétiques qui brassent le solvant autour de la pièce et garantissent un nettoyage en profondeur et des résultats uniformes. Le seau de lavage XiP est compatible avec l'alcool IPA et avec la solution xCLEAN.